Zastosowanie ultradźwiękowej maszyny czyszczącej w czterech gałęziach przemysłu

Przemysł obróbki powierzchniowej:

Ultradźwiękowa maszyna czyszcząca może być używana do czyszczenia przystawki: oleju, wiórów mechanicznych, ścierniwa, kurzu, wosku polerskiego, galwanizacji przed usunięciem osadzania się węgla, usuwania skóry tlenkowej, usuwania pasty polerskiej, rdzy usuwającej olej, powlekania jonami przed czyszczeniem, obróbki powierzchni przedmiotu obrabianego itp. Polerowanie produktów ze stali nierdzewnej, zastawy stołowej, zamków, oświetlenia, ozdób ręcznych przed zabiegiem natryskiwania, czyszczenie przed poszyciem.

Przemysł maszynowy:

Usuwanie smaru antykorozyjnego; Czyszczenie narzędzi pomiarowych; Mechaniczne części oleju i usuwania rdzy, otwarta ultradźwiękowa maszyna czyszcząca może być kompetentna; Jak również silnik, skrzynia biegów, części silnika, amortyzator, korpus zaworu, gaźnik i części samochodowe oraz farba podwozia przed rdzą, czyszczenie odtłuszczające; Filtr, części tłoka, czyszczenie ekranu filtra itp. Części mechaniczne, części sprężarek, części kamer, łożyska, części sprzętowe, formy, szczególnie w przemyśle kolejowym, usuwanie oleju i odkażanie klimatyzacji wagonu kolejowego, a także zapobieganie rdzy, usuwanie rdzy, usuwanie oleju z części lokomotywy, ultradźwiękowa maszyna czyszcząca jest bardzo odpowiednia.

Przemysł farmaceutyczny:

Ultradźwiękowa maszyna czyszcząca może być używana do czyszczenia przystawki: krew, żelatyna, kurz, odciski palców, plamy krwi; Synteza i rozpuszczanie oscylacyjne w branży rozwoju medycznego. Nadaje się również do czyszczenia instrumentów, strzykawek, zakraplaczy, przyborów badawczych i eksperymentalnych, szklanych pojemników i różnych zakresów jelitowych.

Przemysł optyczny:

Farba czyszcząca, w której woda, smar, barwnik, rdza, pozostałości tworzyw sztucznych, kurz, odcisk palca mogą być również używane ultradźwiękowa maszyna czyszcząca, soczewka szklana, soczewka żywiczna, mikroskop, teleskop, soczewka aparatu, szkło powlekane i inne produkty optyczne przed i po czyszczeniu procesu powlekania i montażu; W przemyśle fotoelektrycznym stosuje się go głównie do czyszczenia podłoży LCD i czyszczenia pozostałości ciekłokrystalicznych po zapakowaniu.