Kto zna metodę czyszczenia ultradźwiękowej maszyny do czyszczenia płytek krzemowych?

Istnieją trzy rodzaje czyszczenia fizycznego:

1. Szorowanie lub szorowanie: może usunąć zanieczyszczenia cząsteczkowe i większość filmu przyklejonego do folii.

2. Czyszczenie wysokociśnieniowe: polega na spryskaniu powierzchni arkusza cieczą, a ciśnienie dyszy wynosi do kilkuset atmosfer. Czyszczenie pod wysokim ciśnieniem przez działanie strumieniowe, folia nie jest łatwa do zadrapania i uszkodzenia. Jednak wtrysk pod wysokim ciśnieniem spowoduje efekt elektrostatyczny, którego można uniknąć, dostosowując odległość i kąt od dyszy do folii lub dodając środek antystatyczny.

Czyszczenie ultradźwiękowe: ultradźwiękowa energia dźwiękowa do roztworu, przez kawitację, aby zmyć zanieczyszczenia z wafli. Jednak trudniej jest usunąć cząstki mniejsze niż 1 mikron z wafli z wykresem. Jeśli częstotliwość zostanie zwiększona do uHF, efekt czyszczenia jest lepszy.

Czyszczenie chemiczne: w celu usunięcia zanieczyszczeń atomowych, niewidocznych jonowo, istnieje więcej metod, ekstrakcja rozpuszczalnikiem, wytrawianie (kwas siarkowy, kwas azotowy, woda wodna, różne kwasy mieszane itp.) oraz metoda plazmowa. Metoda czyszczenia instalacji nadtlenkiem wodoru ma dobry efekt i niewielkie zanieczyszczenie środowiska.